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日本北野精機(jī) KMDW-Cell 二元金屬蒸發(fā)源無(wú)

日本北野精機(jī) KMDW-Cell 二元金屬蒸發(fā)源無(wú)

更新日期：2026-05-14

訪問(wèn)量：110

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址：日本

簡(jiǎn)要描述：
日本北野精機(jī) KMDW-Cell 二元金屬蒸發(fā)源無(wú)，可獨(dú)立控溫實(shí)現(xiàn)兩種金屬共蒸鍍，適配半導(dǎo)體、光學(xué)薄膜制備等科研場(chǎng)景，結(jié)構(gòu)緊湊，維護(hù)便捷，適合實(shí)驗(yàn)室鍍膜工藝研發(fā)。

一、產(chǎn)品概述

日本北野精機(jī) KMDW-Cell 二元金屬蒸發(fā)源無(wú)，是專為超高真空（UHV）鍍膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)的雙坩堝式電阻加熱蒸發(fā)源。它通過(guò)獨(dú)立的加熱回路實(shí)現(xiàn)兩種金屬材料的精準(zhǔn)控溫與蒸發(fā)，可用于制備合金、化合物薄膜，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)器件、材料科學(xué)等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)與研發(fā)。

二、核心特點(diǎn)

? 二元材料獨(dú)立控制，支持共蒸鍍工藝雙坩堝設(shè)計(jì)，每個(gè)坩堝配備獨(dú)立的加熱燈絲與控溫電路，可分別調(diào)節(jié)兩種金屬的蒸發(fā)速率，實(shí)現(xiàn)精確配比的合金 / 化合物薄膜沉積，滿足科研工藝對(duì)材料組分的控制需求。
? 超高真空適配，低污染設(shè)計(jì)專為 UHV 環(huán)境優(yōu)化，采用低出氣率材料，可在 10??Pa 級(jí)高真空條件下穩(wěn)定工作，減少雜質(zhì)污染，保障薄膜質(zhì)量，適配半導(dǎo)體、光學(xué)等高潔凈度鍍膜場(chǎng)景。
? 緊湊型法蘭式結(jié)構(gòu)，易集成安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭接口，體積小巧，占用腔室空間小，可直接安裝在各類小型真空鍍膜設(shè)備上，便于集成到現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)中。
? 可拆卸式坩堝與燈絲，維護(hù)便捷坩堝與燈絲組件可拆卸，材料更換、清潔維護(hù)操作簡(jiǎn)單，適合多批次、多材料的實(shí)驗(yàn)研發(fā)，降低實(shí)驗(yàn)成本與維護(hù)難度。
? 適配多種低 / 中熔點(diǎn)金屬可對(duì)金、銀、鋁、銅、鉻等多種金屬材料進(jìn)行蒸發(fā)，通用性強(qiáng)，滿足不同實(shí)驗(yàn)的材料需求。

三、基礎(chǔ)參數(shù)

表格
項(xiàng)目詳情
品牌北野精機(jī)（Kitano Seiki，日本）
型號(hào)KMDW-Cell
工作原理電阻加熱式蒸發(fā)，雙坩堝獨(dú)立控溫
適配環(huán)境超高真空（UHV）環(huán)境
安裝方式標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭安裝
適用材料金、銀、鋁、銅、鉻等低 / 中熔點(diǎn)金屬
結(jié)構(gòu)特點(diǎn)可拆卸式坩堝與燈絲組件，維護(hù)便捷

四、日本北野精機(jī) KMDW-Cell 二元金屬蒸發(fā)源無(wú) 適用場(chǎng)景

  • 半導(dǎo)體與微電子工藝：金屬電極、接觸層、阻擋層的蒸鍍制備，實(shí)現(xiàn)低電阻率金屬薄膜沉積。

  • 光學(xué)薄膜制備：金屬反射膜、吸收膜的制備，適配光學(xué)器件、傳感器的鍍膜需求。

  • 材料科學(xué)研究：合金薄膜、金屬基復(fù)合材料的制備，用于材料性能表征與工藝研究。

  • 基礎(chǔ)物理實(shí)驗(yàn)：超高真空環(huán)境下的金屬薄膜生長(zhǎng)、表面科學(xué)研究，支持多種金屬材料的可控沉積。


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