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LP-M2C 臺(tái)式冷卻式行星回轉(zhuǎn)球磨機(jī)

LP-M2C 臺(tái)式冷卻式行星回轉(zhuǎn)球磨機(jī)

更新日期:2026-06-22

訪問(wèn)量:68

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:日本

簡(jiǎn)要描述:
日本伊藤制作所LP-M2C 臺(tái)式冷卻式行星回轉(zhuǎn)球磨機(jī),自帶全域強(qiáng)制冷卻系統(tǒng),研磨全程穩(wěn)定控溫 20~40℃,解決研磨發(fā)熱對(duì)熱敏、易氧化、易分解物料的熱損傷;雙 45ml 微量平行工位,500rpm 無(wú)級(jí)調(diào)速,最長(zhǎng) 99 小時(shí) 59 分超長(zhǎng)連續(xù)定時(shí),適配瑪瑙 / 氧化鋯 / 氧化鋁 / 鎢合金多材質(zhì)研磨罐,內(nèi)置振動(dòng)異常傳感 + 溫度實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)

一、日本伊藤制作所LP-M2C 臺(tái)式冷卻式行星回轉(zhuǎn)球磨機(jī) 產(chǎn)品基礎(chǔ)信息

項(xiàng)目參數(shù)詳情
產(chǎn)品型號(hào)LP-M2C 臺(tái)式冷卻式行星回轉(zhuǎn)球磨機(jī)
設(shè)備別名低溫控溫行星研磨儀、微量熱敏樣品球磨機(jī)
產(chǎn)地日本
核心原理行星式公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)雙向高速?gòu)?fù)合研磨,全域強(qiáng)制風(fēng)冷控溫
核心用途熱敏感、易氧化、易分解物料的超細(xì)研磨、均質(zhì)混合、平行對(duì)比試驗(yàn)

二、完整標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)參數(shù)

參數(shù)名稱LP-M2C規(guī)格
供電規(guī)格100V 50/60Hz
驅(qū)動(dòng)電機(jī)功率200W
轉(zhuǎn)盤最高轉(zhuǎn)速500rpm 無(wú)級(jí)數(shù)字調(diào)速
研磨罐工位雙對(duì)稱工位,可同步裝載2個(gè)研磨罐
單罐標(biāo)準(zhǔn)容量45ml/個(gè),單批次最大處理量90ml
冷卻溫控區(qū)間研磨腔全域強(qiáng)制風(fēng)冷,全程穩(wěn)定20~40℃
定時(shí)系統(tǒng)數(shù)字遞減式定時(shí)器,最長(zhǎng)可連續(xù)運(yùn)行99小時(shí)59分
安全監(jiān)測(cè)配置內(nèi)置振動(dòng)異常傳感器、實(shí)時(shí)溫度顯示屏、前置紅色急停按鈕
適配研磨罐材質(zhì)瑪瑙、穩(wěn)定氧化鋯、高純度氧化鋁、鎢合金等多材質(zhì)罐體
整機(jī)外形尺寸W640×D672×H313mm 臺(tái)式緊湊型機(jī)身
整機(jī)凈重約50kg

三、設(shè)備工作原理

設(shè)備采用行星式公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)雙向高速運(yùn)動(dòng)結(jié)構(gòu),研磨罐隨轉(zhuǎn)盤公轉(zhuǎn)的同時(shí)自身高速自轉(zhuǎn),罐內(nèi)研磨介質(zhì)在離心力作用下持續(xù)撞擊、摩擦物料,實(shí)現(xiàn)納米級(jí)超細(xì)粉碎與均質(zhì)混合;整機(jī)配備獨(dú)立密閉冷卻風(fēng)道,對(duì)粉碎腔全域進(jìn)行強(qiáng)制風(fēng)冷降溫,將研磨過(guò)程中罐內(nèi)摩擦發(fā)熱穩(wěn)定控制在20~40℃接近常溫區(qū)間,消除高溫對(duì)熱敏感、易分解、易氧化試樣的結(jié)構(gòu)與成分破壞,實(shí)現(xiàn)低溫環(huán)境下的穩(wěn)定超細(xì)研磨。

四、產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì)

1. 全域強(qiáng)制冷卻系統(tǒng),熱敏樣品專屬解決方案

整機(jī)粉碎區(qū)域獨(dú)立循環(huán)風(fēng)道強(qiáng)力冷卻,研磨過(guò)程罐內(nèi)溫度穩(wěn)定20~40℃,大幅降低摩擦發(fā)熱,不會(huì)破壞熱敏感、易分解、易氧化試樣,適配醫(yī)藥、生物、高分子、有機(jī)材料等常規(guī)球磨無(wú)法處理的熱敏物料研磨。

2. 雙45ml微量工位,平行對(duì)比試驗(yàn)高效便捷

雙罐對(duì)稱同步研磨,單次可完成兩組平行樣品,單罐45ml微量容量,專為實(shí)驗(yàn)室微量配方、對(duì)比試驗(yàn)、珍貴試樣制樣設(shè)計(jì),大幅縮短試驗(yàn)周期,提升數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。

3. 多材質(zhì)研磨罐自由選配,杜絕交叉污染

提供瑪瑙、穩(wěn)定氧化鋯、高純度氧化鋁、鎢合金等多種材質(zhì)罐體,可根據(jù)礦石、陶瓷、醫(yī)藥、生物、鋰電、高分子等不同試樣特性按需選型,避免金屬離子析出、交叉污染,滿足高潔凈度制樣要求。

4. 超長(zhǎng)數(shù)字定時(shí),支持多日連續(xù)濕法研磨

數(shù)字遞減計(jì)時(shí)器最長(zhǎng)可設(shè)置99小時(shí)59分,可實(shí)現(xiàn)夜間、多日不間斷超細(xì)研磨,無(wú)需人工值守,適配納米級(jí)粉體長(zhǎng)時(shí)間細(xì)化、濕法包覆等長(zhǎng)周期工藝需求。

5. 雙重安全監(jiān)測(cè),運(yùn)行狀態(tài)全程可視化

配備振動(dòng)傳感異常保護(hù)、實(shí)時(shí)溫度顯示面板、前置紅色急停按鈕,轉(zhuǎn)速、溫度、運(yùn)行時(shí)長(zhǎng)一目了然,遇異常振動(dòng)、超溫可自動(dòng)預(yù)警停機(jī),保障實(shí)驗(yàn)室設(shè)備與人員安全。

6. 臺(tái)式緊湊機(jī)身,實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面直接擺放

整機(jī)桌面式一體化設(shè)計(jì),占地適中,無(wú)需大型車間場(chǎng)地,高校、藥企、新材料小型研發(fā)工位均可直接安置,適配絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面空間。

7. 同系列機(jī)型拓展選擇,滿足不同需求

同系列提供基礎(chǔ)冷卻款LP-1C、桌上迷你冷卻款LP-M2C,可根據(jù)樣品量、試驗(yàn)需求靈活選型,同時(shí)提供設(shè)備有償租賃服務(wù),適配短期試驗(yàn)、項(xiàng)目階段性使用需求。

五、適用物料與應(yīng)用行業(yè)場(chǎng)景

1. 適配研磨物料(重點(diǎn)適配熱敏材料)

  • 醫(yī)藥生物類:熱敏中藥材、生物提取物、藥用高分子、易分解原料藥、生物制劑原料

  • 新能源類:低溫敏感鋰電正負(fù)極材料、固態(tài)電解質(zhì)、有機(jī)導(dǎo)電漿料、光伏材料

  • 高分子類:樹脂、塑料顆粒、有機(jī)填料、易氧化聚合物、高分子助劑

  • 地質(zhì)礦物類:微量巖礦、貴金屬試樣、易氧化非金屬礦石、稀土礦物

  • 陶瓷無(wú)機(jī)類:高純陶瓷粉體、熒光粉、稀土熱敏熒光材料、玻璃粉體

2. 適用機(jī)構(gòu)

高校材料/化工/醫(yī)藥/生物實(shí)驗(yàn)室、藥企研發(fā)質(zhì)檢室、新能源材料試制中心、高分子新材料研究所、地質(zhì)微量樣品檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室、稀土材料研發(fā)中心。

六、整機(jī)結(jié)構(gòu)組成

  1. 臺(tái)式一體化鈑金主機(jī):緊湊型桌面機(jī)身,右側(cè)集成大功率冷卻散熱風(fēng)道,密閉防塵降噪;

  2. 行星研磨轉(zhuǎn)盤:雙工位對(duì)稱罐架,公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)復(fù)合行星運(yùn)動(dòng)結(jié)構(gòu),運(yùn)行平穩(wěn)低震動(dòng);

  3. 全域強(qiáng)制冷卻系統(tǒng):獨(dú)立風(fēng)冷循環(huán)風(fēng)道,覆蓋整個(gè)粉碎倉(cāng)腔體,實(shí)現(xiàn)全域均勻降溫;

  4. 多參數(shù)集成控制面板:轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)旋鈕、數(shù)字計(jì)時(shí)屏、溫度顯示屏、振動(dòng)傳感模塊、紅色急停按鈕,操作便捷直觀;

  5. 研磨罐選配組件:45ml瑪瑙/氧化鋯/氧化鋁/鎢合金密封研磨罐、配套研磨介質(zhì)球;

  6. 安全防護(hù)結(jié)構(gòu):上翻蓋密閉倉(cāng)門,運(yùn)行時(shí)密閉鎖止,防塵降噪,防止異物進(jìn)入。


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