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MC-4A 四工位懸掛式臺(tái)式振動(dòng)磨機(jī)
更新日期：2026-06-23
訪問量：73
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
生產(chǎn)地址：日本
一、日本伊藤制作所MC-4A 四工位懸掛式臺(tái)式振動(dòng)磨機(jī) 產(chǎn)品基礎(chǔ)信息
| 項(xiàng)目 | 參數(shù)詳情 |
|---|---|
| 產(chǎn)品型號(hào) | MC-4A 四工位懸掛式振動(dòng)磨機(jī) |
| 設(shè)備別名 | 臺(tái)式回旋振動(dòng)研磨機(jī)、X射線分析微量平行樣品制樣機(jī) |
| 產(chǎn)地 | 日本 |
| 研磨原理 | 回旋高頻振動(dòng)，棒狀介質(zhì)撞擊摩擦超細(xì)粉碎 |
| 核心用途 | XRF/XRD光譜檢測(cè)微量硬質(zhì)樣品平行超細(xì)制樣 |
二、完整標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)參數(shù)
| 參數(shù)名稱 | MC-4A規(guī)格 |
|---|---|
| 供電規(guī)格 | 100V 50/60Hz |
| 驅(qū)動(dòng)電機(jī)功率 | 100W（0.1kw） |
| 研磨工位 | 4個(gè)獨(dú)立懸掛工位，4組樣品同步研磨 |
| 單罐容積 | 10ml/個(gè)，批次總研磨量40ml |
| 進(jìn)料粒度上限 | ≤5mm小塊硬質(zhì)原料 |
| 出料細(xì)度 | 0.01mm以下，納米級(jí)超細(xì)粉末 |
| 研磨介質(zhì)形式 | 棒式粉碎介質(zhì)，低粘壁、低熱生成 |
| 可選罐體7種材質(zhì) | 瑪瑙、部分穩(wěn)定氧化鋯、高鋁、淬火硬化鋼、不銹鋼、碳化鎢、聚酰胺樹脂 |
| 整機(jī)外形尺寸 | W360×D460×H400mm |
| 主機(jī)凈重 | 約35kg（不含研磨罐、研磨棒耗材） |
三、設(shè)備工作原理
設(shè)備依靠電機(jī)驅(qū)動(dòng)整機(jī)產(chǎn)生低振動(dòng)回旋運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)扁平寬底研磨罐與內(nèi)部棒狀介質(zhì)持續(xù)撞擊、摩擦物料，短時(shí)間將微量硬質(zhì)塊狀試樣研磨至0.01mm以下超細(xì)粉末；區(qū)別傳統(tǒng)球形球磨，棒式介質(zhì)接觸面積均勻，樣品粘壁殘留少，研磨產(chǎn)熱更低，不會(huì)損傷熱敏、易氧化微量試樣；四工位同步結(jié)構(gòu)可一次性完成4組平行對(duì)比樣品，滿足光譜儀器批量檢測(cè)需求。
四、產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì)
1. 四工位同步研磨，平行試驗(yàn)效率大幅提升
可同時(shí)裝載4個(gè)研磨罐，一次性制備4組對(duì)照樣品，適配地質(zhì)、礦產(chǎn)實(shí)驗(yàn)室大批量X射線光譜檢測(cè)，減少多次研磨操作，保障實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)一致性。
2. 棒式介質(zhì)+扁平罐體，低粘附、低熱損傷
摒棄傳統(tǒng)球形磨球，采用棒狀研磨介質(zhì)，研磨時(shí)物料附著率低，罐體無頑固殘留；運(yùn)行發(fā)熱遠(yuǎn)低于常規(guī)球磨機(jī)，適合熱敏、易氧化珍貴微量樣品制樣，清洗簡單無交叉污染。
3. 7種材質(zhì)罐體全覆蓋，適配各類檢測(cè)試樣
提供瑪瑙、氧化鋯、氧化鋁、硬質(zhì)合金、不銹鋼、樹脂等7種研磨容器，可根據(jù)礦石、稀土、陶瓷、醫(yī)藥、金屬試樣自由選配，杜絕金屬離子析出，滿足高純度分析標(biāo)準(zhǔn)。
4. 低振動(dòng)臺(tái)式機(jī)身，實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面直接擺放
整機(jī)優(yōu)化減震回旋結(jié)構(gòu)，運(yùn)行抖動(dòng)小，360×460mm緊湊占地，無需專用地基，化驗(yàn)室、小型研發(fā)工位均可放置。
5. 10ml微量小容量，適配微量稀缺樣品
單罐僅10ml容積，針對(duì)XRF、XRD等微量分析儀器配套，少量稀缺礦石、礦物、原料藥也可完整制樣，無樣品浪費(fèi)。
6. 密閉弧形防塵翻蓋，潔凈作業(yè)無損耗
弧形密封防塵上蓋，研磨過程粉料不外溢，既保護(hù)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境，又避免微量珍貴樣品流失損耗。
7. 靈活租賃方案，降低短期試驗(yàn)成本
原廠提供設(shè)備有償租賃服務(wù)，適合短期課題、階段性檢測(cè)項(xiàng)目，無需一次性全款采購設(shè)備。
五、日本伊藤制作所MC-4A 四工位懸掛式臺(tái)式振動(dòng)磨機(jī) 適用物料與應(yīng)用行業(yè)場(chǎng)景
1. 適配研磨硬質(zhì)樣品
地質(zhì)礦產(chǎn)：巖石、稀土礦、土壤、微量礦石、礦物標(biāo)樣（X射線熒光、XRD分析專用）
無機(jī)陶瓷：耐火粉體、熒光粉、高純陶瓷顆粒、無機(jī)填料
醫(yī)藥化工：藥用礦物、無機(jī)原料藥、硬質(zhì)催化顆粒、固態(tài)高分子小樣
硬質(zhì)合金：微量碳化鎢、金屬礦、淬火硬質(zhì)原料
2. 適用機(jī)構(gòu)
地質(zhì)勘察院、礦產(chǎn)檢測(cè)中心、高校材料/地質(zhì)學(xué)院實(shí)驗(yàn)室、第三方光譜分析檢測(cè)機(jī)構(gòu)、陶瓷新材料研發(fā)室、藥企理化質(zhì)檢實(shí)驗(yàn)室。
六、整機(jī)結(jié)構(gòu)組成
臺(tái)式一體化減震主機(jī)底座：內(nèi)置100W回旋振動(dòng)電機(jī)，低震動(dòng)運(yùn)行；
四工位獨(dú)立懸掛罐架：4組卡扣式工位，可單獨(dú)拆裝研磨罐；
弧形透明防塵密封翻蓋：運(yùn)行密閉防塵，開蓋停機(jī)安全保護(hù)；
數(shù)字控制面板：研磨時(shí)長、振動(dòng)參數(shù)調(diào)節(jié)模塊；
選配耗材組件：10ml多材質(zhì)扁平研磨罐、配套棒狀研磨介質(zhì)；
七、標(biāo)準(zhǔn)操作流程
根據(jù)樣品材質(zhì)挑選對(duì)應(yīng)10ml研磨罐，裝入微量試樣與配套棒狀研磨介質(zhì)，密封罐蓋；
將4個(gè)研磨罐對(duì)稱懸掛固定在四工位支架，扣緊卡扣；
閉合防塵翻蓋，接通100V電源，在面板設(shè)置研磨時(shí)長；
啟動(dòng)設(shè)備，回旋振動(dòng)帶動(dòng)介質(zhì)超細(xì)研磨，短時(shí)間完成制樣；
計(jì)時(shí)結(jié)束自動(dòng)停機(jī)，待振動(dòng)停止后打開翻蓋；
取下研磨罐，倒出超細(xì)粉末用于光譜儀器分析，清水沖洗罐體即可清除殘留。
